چکیده

لایه هاي نازك تلورید کادمیم با استفاده از روش تبخیر حرارتی روي زیر لایه شیشه با ضخامت تقریبی ۶۵۰ nm تهیه شدند. در این پژوهش، اثر دماي زیر لایه روي خواص ساختاري و مورفولوژي سطح نمونه ها مورد مطالعه قرار گرفت. آنالیز هاي ساختاري با استفاده از تحلیل پراش اشعه ایکس (XRD) وبررسی مورفولوژي سطح نیز با میکروسکوپ الکترونی روبشی اثر میدان ( FESEM) انجام شد. محاسبه پارامتر هاي ساختاري آشکار نمود که اندازه بلورکها با افزایش دماي زیر لایه بزرگتر شد. همچنین کیفیت مشاهده گردید که کیفیت بلوري لایه ها با افزایش دماي زیر لایه بهبود یافت.

.

مقدمه هایی است نظیر کاهش میزان ناخالصی هایی که ممکن است حین
امروزه لایه هاي نازك تلورید کادمیم به خاطر استفاده در تولید رشدوارد لایه شوند و همچنین لایه کمتر در معرض اکسیده شدن
دیود ها و رساناهاي حساس به نور و ترانزیستورها و قرار می گیرد.[۸] دراین روش ماده مورد نظر در یک بوته قرار داده
آشکارسازهاي فروسرخ مورد توجه هستند ] [ شده وپس از آنکه محفظه به خلأ مورد نظر رسید در اثر عبور
. ۱ در برخی از جریان الکتریکی از بوته، ذوب و سپس تبخیر میگردد. این بخارات
سلولهاي خورشیدي از تلورید کادمیم به عنوان لایه جاذب نور در
کنار یک لایه موسوم به لایه پنجره استفاده میشود. روشهاي بر روي زیر لایه اي که در بالاي بوته قرار گرفته است چگالیده
متفاوتی براي تهیه لایه نازك تلورید کادمیم مناسب شناخته شده شده و تشکیل یک لایه را می دهد. در این مقاله مطالعه وابستگی
اند نظیر تصعید در فضاي بسته ]۱ [ انباشت ]۲ [ خصوصیات ساختاري لایه هاي تلورید کادمیم به دماي زیر لایه و
۲ ، الکترو ۳و۴ ، تأثیر آن روي کیفیت بلوري گزارش شده است.
برآراستی باریکه ] [ رسوب گذاري از بخار شیمیایی
مولکولی ۵ ،
فلزات آلی[۶]۳، انباشت در خلأ ۱]و[۷ و غیره. در این میان روش تبخیر در خلأ بویژه در مقایسه با روش هاي شیمیایی داراي برتري

۳۰

روش آزمایش

لایه هاي نازك تلورید کادمیم با استفاده از روش تبخیر حرارتی در خلأ بر روي زیر لایه هایی از جنس شیشه تهیه گردید.

عملیات لایه نشانی در دستگاه VACUUM COATING

۱۵F6 -UNIT MODEL ساخت شرکت HINDHIVAC

انجام گردید.

از پودر تلورید کادمیم با خلوص بالا براي لایه نشانی استفاده گردید. همچنین بوته درپوش دار از جنس مولیبدن براي تبخیر تلورید کادمیم مورد استفاده قرار گرفت. فشار محفظه۵×۱۰-۶ میلی بار، فاصله بوته تا زیر لایه ۱۶cm و نرخ لایه نشانی ۱۰ آنگستروم بر ثانیه بود. . ضخامت لایه ها توسط بلور کوارتز تعبیه شده در دستگاه لایه نشانی ۶۵۰ نانو متر ثبت شد.

در سیستم خلأ از یک گرمکن تشعشعی براي گرم کردن زیر لایه ها استفاده گردید. لایه هایی با دماي زیر لایه ۲۰۰، ۳۰۰ و ۴۰۰ درجه سانتی گراد، که به ترتیب نمونه هاي الف، ب و ج نامیده می شوند، تهیه شد.

نتایج و بحث

جهت بررسی خواص ساختاري نمونه هاي ساخته شده از دستگاه اشعه X ، با هدف مس و پرتو Kα استفاده شد. شکل (۱)

طیف XRD لایه هاي نازك تلورید کادمیم ساخته شده در دماهاي مختلف زیر لایه را نشان می دهد.
ساختار لایه هاي نازك تلورید کادمیم لایه نشانی شده در دماهاي مختلف از نوع زینک بلند ۴ می باشد. با توجه به شکل، قله هاي مشخصه تلورید کادمیم در طیف هر سه نمونه در موقعیت هاي یکسانی مشاهده می شوند که تنها از لحاظ شدت با یکدیگر متفاوتند. در جدول((۱ شدت قله هاي (۱۱۱) ، (۲۲۰) و (۳۱۱)

براي دماهاي مختلف مشخص شده است. در هرسه این طیف ها قله (۱۱۱) داراي شدت بیشتري نسبت به دو قله دیگر می باشد.
این نشان می دهد یک جهت ترجیحی براي رشد ریز بلورك ها ۵

عمود بر سطح زیرلایه که همان جهت [۱۱۱] است [۹]، وجود دارد. در کار مشابهی که توسط پرسک۶ و همکارانش انجام شده جهت ترجیحی، دسته صفحه {۱۱۱}تشخیص داده شد که موازي با سطح زیرلایه است.[۱۰]